Actuellement en salle blanche
Evaporation, Canon à électrons, Pulvérisation cathodique, PECVD. Or,Titane, Platine, Aluminium, oxydes et nitrures…
Machines de gravure plasma ICP RIE, gaz fluorés et chlorés
Salle de lithographie comprenant trois hottes de spincoating et trois aligneurs dont un double face
Deux microscopes électronique FEI dont un avec sonde X
Disco DAD 3230, découpe de plaquettes Si, céramique, SiC, Quartz, verre.
Profilomètre optique Fogale, profilometre DEKTAK, Ellipsomètre, mesures électriques 4 pointes.
Système RAITH Pioneer two
Sub-8 nm nanolithography performance
Laser Interferometer Controlled Stage
système KLOE DILASE
2 hottes Solvants, 2 hottes Acides/Bases, 1 hotte dédiée PDMS
Microscopes à force atomique: Dimension 5 Nanoscope V, Dimension 3100 Nanoscope IIIA quadrex controller
Lateral Force Microscopy, Conductive AFM, Piezoresponse Force Microscopy, Electric Force,Surface Potential, Kelvin Force microscopy
Displacement of atoms, molecules and nanostructures, Nanolithography, nano-oxidation
Alain Giani | Responsable CTM | alain.giani(at)umontpellier.fr | 046714 3713 |
Fréderic Pichot | Ingénieur Salle blanche | frederic.pichot(at)umontpellier.fr | 046714 4869 |
Michel Ramonda | Responsable Champ proche | michel.ramonda(at)umontpellier.fr | 046714 4919 |
Renaud Felix | Ingénieur d'études | renaud.felix(at)umontpellier.fr | 046714 4884 |
Jean Marie Peiris | Technicien | jean-marie.peiris(at)umontpellier.fr | 046714 3233 |